產品介紹
電鍍涂裝行業中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導率在15us/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10us/cm以下純水來清洗，電鍍行業水處理系統包括電鍍前電鍍液配制需要的純水處理系統、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環利用廢水零排放系統。通常系統由超濾裝置，反滲透裝置，離子交換裝置，edi裝置等組合而成，以滿足電鍍行業對水質的要求。
電鍍涂裝用超純水設備也不需要用酸堿進行再生便可連續制取超純水，對環境沒什么破壞性，技術科學環保，自動化程度高，出水質量高且可調整。
ED超純水設備應用
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
2、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用純水制備。
3.單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用純水。
工藝設計
電鍍涂裝行業EDI超純水模塊（電除鹽）的工藝流程:
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透主機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點
設備特點
電鍍涂裝行業EDI超純水模塊（電除鹽）的優點
1、不需要酸堿再生：電除鹽的操作安全的，廢水的處理變得簡單了。
2、可連續生產：電除鹽的生產是連續的，免除了使用混床過程中復雜的再生操作，減少了很多備用設備。
3、不需要處理廢酸堿：沒有廢酸堿的中和排放處理系統。電除鹽的濃水可以直接排放或返回到RO的進口（EDI中濃水量比純水少得多）。
4、安裝條件簡單：電除鹽在安裝時，占地面積小，大部分標準廠房都能滿足，對于較低的廠房，可以通過對電除鹽模塊的水平配置解決。
5、運行成本低：電除鹽系統與各種混床相比，在價格上有競爭性。
6、水質穩定：電除鹽的出水質量穩定有把握。不會有普通混床那樣的水質變化。。總體降低了總投資費用
技術參數
1、給水：RO純水，一般水的電導率為4-30us/cm。
2、PH：5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)
3、溫度：5-35℃
4、進水壓力：最大為4kg/cm2(60psi)，最小為1.5kg/cm2(25psi)。
5、出水電阻率：1Ω·m~18.2Ω·m（常溫下20°C
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